（来源：今日半导体）

合肥开悦半导体科技有限公司持续优化业务布局，将业务重心聚焦于涂胶显影装备的研发、生产与制造。近日，合肥开悦半导体面向国内12英寸晶圆制造市场推出CRYSTAL TRACK Rubi 3 12寸Inline涂胶显影机，为国内前道光刻工艺提供国产化涂胶显影配套装备的又一选择。

合肥开悦半导体成立于2016年，在合肥设立总部，同时布局廊坊、上海、厦门及新加坡、日本分支机构，搭建起研发、制造与全球服务体系。公司早期深耕光刻设备维保、设备再制造等技术服务业务，在长期黄光区设备服务实践中，积累了整机架构、工艺单元与设备控制软件等方面的技术储备。伴随国内集成电路产业发展，结合国内晶圆产线实际应用需求，公司调整业务方向，集中资源投入涂胶显影装备的自主研发与生产落地。 

涂胶显影机（Track）是光刻机的核心配套装备，承担晶圆光刻胶涂布、热处理、显影等工艺环节，其性能直接关系晶圆加工工艺质量与产线吞吐效率。长期以来，12 英寸高端Inline涂胶显影装备国产化配套供给仍存在较大市场需求，国内晶圆产线在采购周期、本地化运维保障等方面存在现实需求，也是国内前道装备领域重点发展的方向之一。

CRYSTAL TRACK Rubi 3 为Rubi系列旗舰机型，面向12英寸前道晶圆生产场景开发。工艺适配方面，设备可支持i-line、KrF、ArF、ArF immersion浸没式全波段光刻工艺，能够满足成熟制程与湿法光刻的生产需求；可适配逻辑芯片、DRAM 内存、NAND 闪存、功率半导体、CIS 图像传感器等多品类芯片制造，覆盖存储、功率器件、光学传感等多个应用赛道，适配国内多款主流12寸晶圆产线。

整机采用叠层并行架构，搭配自研多任务智能调度派工系统，整机可配置多达24个旋涂腔体、80个（含8个ADH）热处理工艺单元，支持多批次、多工艺并行作业，同时优化设备占地面积，适配洁净车间高密度布局需求。在特定配置与工艺条件下，设备峰值产能可达300WPH，可支撑高节拍规模化晶圆量产。

软件层面配备开悦自研模块化控制系统，集成智能诊断、状态监测、异常预警等功能，简化操作流程，助力优化运维成本。设备原生兼容 AMHS 自动物料搬运系统、EAP设备自动化接口，可接入晶圆厂智能工厂体系；支持与市面主流光刻机实现Inline 连线作业，结合在线缺陷检测能力，实现工艺加工、实时检测一体化。供应链采用 “自研+国内供应链+成熟进口部件”的多元布局，优化供应链结构，保障整机运行稳定性。

据悉，CRYSTAL TRACK Rubi 3 已向国内存储芯片制造企业完成设备交付，持续基于客户现场反馈开展工艺迭代。

面向后续发展，合肥开悦半导体表示，将持续打磨CRYSTAL TRACKRubi系列产品，依托海内外研发团队与本地化制造基地，结合客户验证反馈迭代产品工艺能力，稳步推进设备在不同类型晶圆产线的验证与交付。同时依托全球服务网络，为客户提供全周期技术支持，深耕涂胶显影装备细分赛道，打造适配国内产线需求、运维便捷的光刻配套装备，助力国内半导体前道装备产业链建设。