盛美半导体盛帷半导体取得炉管相关专利,控温减刻蚀,护炉管保晶圆加工质量
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2026-08-19 09:13:33
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8月19日消息,国家知识产权局信息显示,盛美半导体设备(上海)股份有限公司、盛帷半导体设备(上海)有限公司申请一项名为“具有清洗功能的炉管及炉管的清洗工艺”的专利,授权公告号CN120649155B,授权公告日为2026年8月18日。申请公布号为CN120649155A,申请号为CN202410295385.2,申请公布日期为2026年8月18日,申请日期为2024年3月14日,发明人孙旭海、陈宇、周冬成,专利代理机构上海专利商标事务所有限公司,专利代理师杜娟,分类号C30B35/00、H10P72/00。

专利摘要显示,本发明提出一种具有清洗功能的炉管及炉管清洗工艺。炉管包括炉体,所述炉体的侧壁设置有控温区域,包括:将晶舟及保温桶升至炉体内部,封闭炉体并抽真空;向炉体内通入清洗气体,以清洗炉体内的待清洗层,在清洗过程中,控制控温区域中的第一控温区域的加热温度逐步降低,使得第一控温区域在清洗结束时的最终目标温度相较于在清洗开始时的初始目标温度低5~10℃,其中,第一控温区域对应于保温桶的上部分区域。本发明通过控制保温桶的上部分区域对应的第一控温区域加热温度逐步降低;使清洗工艺结束时,第一控温区域的目标温度相较于该控温区域的初始目标温度低5~10℃,达到保护保温桶,防止清洗时过刻蚀而产生颗粒污染源,保障晶圆加工质量的目的。

天眼查数据显示,盛美半导体设备(上海)股份有限公司成立日期2005年5月17日,法定代表人HUI WANG,所属行业为专用设备制造业,企业规模为大型,注册资本48259.6689万人民币,实缴资本48259.6689万人民币,注册地址为中国(上海)自由贸易试验区丹桂路999弄5、6、7、8号全幢。盛美半导体设备(上海)股份有限公司共对外投资了16家企业,参与招投标项目186次,财产线索方面有商标信息82条,专利信息751条,拥有行政许可33个。

盛美半导体设备(上海)股份有限公司近期专利情况如下:

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人
1电镀装置发明专利公布CN202610875033.32026-06-17CN122446313A2026-07-24杨宏超、花宇、金一诺、王坚
2基板处理方法及基板处理装置发明专利公布CN202610876815.92026-06-17CN122476857A2026-07-28石宁、张晓燕、王文军、郜远鹏、徐磊
3半导体工艺腔及沉积工艺装置发明专利公布CN202610420144.52026-04-01CN122428258A2026-07-21张侣倛、陈守俊、贾社娜
4薄膜沉积装置及沉积方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610011040.92026-01-06CN122039027A2026-05-15朱志君、赵伟、纪海远
5检测工装、射频特性检测装置及等离子体装置发明专利实质审查的生效、公布CN202610001596.X2026-01-04CN122063350A2026-05-19罗雁燊、陈更明、成康、朱志君、张山
6基片湿法处理装置及基片处理设备发明专利授权CN202511696240.42025-11-19CN121149062B2026-08-04李亚洲、贾社娜、王俊、林金木、方波、李昱
7一种传感器校准装置及基板清洗机发明专利公布CN202511565215.22025-10-30CN121540106A2026-02-17陈远、赵运翔、何西登
8基板处理装置发明专利授权CN202511376375.22025-09-25CN120878605B2026-04-17苏政、贾社娜、邓新平
9处理液供给机构及涂覆装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511292109.12025-09-11CN120790418A2025-10-17程成、吴均、赵中旭、徐飞、王坚、李康植
10供液装置、清洗装置、清洗方法及计算机可读介质发明专利授权CN202511292108.72025-09-11CN120767230B2026-01-27苏政、贾社娜、李彬、邓新平
11排气用防腐组件及炉管设备发明专利授权CN202511100391.92025-08-07CN120591755B2025-12-12段航、周冬成
12单片晶圆干燥设备及干燥方法发明专利发明专利申请公布后的驳回、实质审查的生效、公布CN202510873904.32025-06-27CN120403215A2025-08-01谢翔、张晓燕、胡海波、陶泽魏、李兴、宗源
13薄膜沉积装置及薄膜沉积方法发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510874680.82025-06-27CN120366747B2025-09-23戴明宇、周培垄、李天天、费红财、陈更明、成康、金京俊
14基片盒存储装置、工作方法及基片处理设备发明专利授权、公布CN202510780743.32025-06-12CN120319704B2025-10-17许创威、贾社娜、张大海
15密封件外观专利授权CN202530280752.72025-05-19CN309744402S2026-01-23付延奇、贺斌、杨配贤、崔玉民
16双级溅液监测系统、方法及计算机可读介质发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510594876.12025-05-09CN120127033B2025-08-15谢翔、张晓燕、胡海波、陶泽魏、宗源
17晶圆卡匣调整装置及晶圆浸泡装置发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510526003.72025-04-25CN120072715B2025-07-25王双五、苏飘、朱国辉、宗源、胡海波、张晓燕
18化学液供应系统、换液方法、基板处理装置和介质发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510432151.22025-04-08CN119934438B2025-08-08陶泽魏、胡海波、张晓燕
19炉管设备发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510312070.92025-03-17CN119824390B2025-07-11杨扬、贾社娜、张大海
20进气管及炉管设备发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510295477.52025-03-13CN119800332B2025-07-04蒯蔚、周冬成、蒋攀辉
21电镀装置及电镀设备发明专利公布CN202510125703.52025-01-26CN122484885A2026-07-31王坚、贾照伟、杨宏超、朱志军、汪若飞、代兰奎、王尊宇、刘根、王其强
22基板处理设备及方法发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202510114602.82025-01-23CN120143565A2025-06-13徐飞、李康植、吴均、杨仁政、程成、王坚
23晶圆缓冲层边缘的清洗方法和设备发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510066274.92025-01-16CN119480619B2025-04-25戴奔、刘畅、仰庶、张晓燕
24蒸发组件、储液槽和蒸发组件的设计方法发明专利公布CN202510046661.62025-01-10CN122351844A2026-07-10麻卉港、郭明山、吴均、杨宏超
25基板夹具及基板夹持方法发明专利公布CN202510046668.82025-01-10CN122358296A2026-07-10王坚、贾照伟、杨宏超
26基板处理装置及包含其的基板处理系统发明专利公布CN202510046652.72025-01-10CN122396242A2026-07-14王博、刘畅、仰庶、张晓燕
27基板处理装置发明专利公布CN202510040003.62025-01-09CN122373717A2026-07-10金一诺、郭明浩、石轶、陈浩天
28炉管设备及基片预热方法发明专利公布CN202510041754.X2025-01-09CN122384492A2026-07-14蒋攀辉、周冬成、蒯蔚
29用于晶圆处理装置的调节设备及方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510032943.02025-01-08CN122358168A2026-07-10戴明宇、贾社娜、朱志军、贺斌、费红财、田连刚、李天天、金京俊
30基板清洗装置及清洗方法、基板清洗系统发明专利公布CN202510027212.72025-01-07CN122345954A2026-07-07朱国辉、孙建
31反应腔结构发明专利实质审查的生效、公布CN202510027815.72025-01-07CN122344717A2026-07-07成康、张侣倛、周培垄、金京俊
32喷淋头发明专利实质审查的生效、公布CN202510013814.72025-01-03CN122327194A2026-07-03戴明宇、朱志君、贺斌、费红财、田连刚、程景丽、金京俊
33喷淋头发明专利实质审查的生效、公布CN202510013820.22025-01-03CN122327195A2026-07-03戴明宇、朱志君、贺斌、费红财、田连刚、程景丽、金京俊
34RF连接器发明专利实质审查的生效、公布CN202510013836.32025-01-03CN122338464A2026-07-03戴明宇、朱志君、贺斌、费红财、田连刚、程景丽、金京俊
35化学液供应设备发明专利公布CN202510013830.62025-01-03CN122373716A2026-07-10刘成柱、胡海波、冯凯、李兴
36清洗设备及清洗方法发明专利公布CN202510007233.22025-01-02CN122341097A2026-07-03麻森朋、杨宏超
37晶圆处理方法和装置发明专利公布CN202510010070.32025-01-02CN122341090A2026-07-03殷永飞、张晓燕、初振明、程龙跃、范心海、张忠龙
38晶圆对中方法发明专利公布CN202510007202.72025-01-02CN122341140A2026-07-03贾福金、王文军、张晓燕
39半导体设备发明专利公布CN202411934078.02024-12-25CN122318761A2026-06-30张忠龙、初振明、张晓燕
40基板处理设备及基板处理方法发明专利公布CN202411917716.82024-12-23CN122294862A2026-06-26徐文华、刘阳、胡海波、张晓燕
41用于晶圆CMP后清洗的喷头固件及清洗方法发明专利公布CN202411853646.42024-12-13CN122248988A2026-06-19王银、周飞、蒋寅魁、张佳妮、仰庶、张晓燕
42电镀装置发明专利公布CN202411835091.02024-12-12CN122189807A2026-06-12任正博、金一诺、石轶、贺宇、左经之
43翻转装置及基板处理设备发明专利公布CN202411835174.X2024-12-12CN122227915A2026-06-16李德鑫、李承熙、沈旻燮、焦欣欣、张少帅、王俊、吴均
44基板涂覆设备发明专利公布CN202411824707.42024-12-11CN122194571A2026-06-12吴均、杨仁政、程成、徐飞、吴雷
45面板金属沉积及减薄设备发明专利公布CN202411814873.62024-12-10CN122189813A2026-06-12金一诺、杨宏超、王坚
46基板电镀装置、电镀设备及基板电镀方法发明专利公布CN202411806689.72024-12-09CN122169189A2026-06-09朱志君、王坚
47基片处理装置发明专利公布CN202411806716.02024-12-09CN122206198A2026-06-12李昱、王文军、张晓燕
48晶圆刻蚀方法发明专利公布CN202411796919.62024-12-06CN122206188A2026-06-12陈子山、程龙跃、初振明、张晓燕
49方形基板处理方法和装置发明专利公布CN202411777413.02024-12-04CN122161398A2026-06-05吴勐、王坚、贾照伟、金一诺
50泄漏检测系统及清洗设备发明专利公布CN202411766935.02024-12-03CN122142013A2026-06-05路添竣、邓新平

天眼查数据显示,盛帷半导体设备(上海)有限公司成立日期2019年3月25日,法定代表人王坚,所属行业为专用设备制造业,企业规模为小型,注册资本302234.85万人民币,实缴资本162234.85万人民币,注册地址为中国(上海)自由贸易试验区临港新片区新元南路388号。盛帷半导体设备(上海)有限公司共对外投资了0家企业,参与招投标项目9次,财产线索方面有商标信息0条,专利信息66条,拥有行政许可99个。

盛帷半导体设备(上海)有限公司近期专利情况如下:

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人
1电镀装置发明专利公布CN202610875033.32026-06-17CN122446313A2026-07-24杨宏超、花宇、金一诺、王坚
2基片湿法处理装置及基片处理设备发明专利授权CN202511696240.42025-11-19CN121149062B2026-08-04李亚洲、贾社娜、王俊、林金木、方波、李昱
3基板处理装置发明专利授权CN202511376375.22025-09-25CN120878605B2026-04-17苏政、贾社娜、邓新平
4供液装置、清洗装置、清洗方法及计算机可读介质发明专利授权CN202511292108.72025-09-11CN120767230B2026-01-27苏政、贾社娜、李彬、邓新平
5排气用防腐组件及炉管设备发明专利授权CN202511100391.92025-08-07CN120591755B2025-12-12段航、周冬成
6基片盒存储装置、工作方法及基片处理设备发明专利授权、公布CN202510780743.32025-06-12CN120319704B2025-10-17许创威、贾社娜、张大海
7晶圆卡匣调整装置及晶圆浸泡装置发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510526003.72025-04-25CN120072715B2025-07-25王双五、苏飘、朱国辉、宗源、胡海波、张晓燕
8炉管设备发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510312070.92025-03-17CN119824390B2025-07-11杨扬、贾社娜、张大海
9进气管及炉管设备发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510295477.52025-03-13CN119800332B2025-07-04蒯蔚、周冬成、蒋攀辉
10炉管设备及基片预热方法发明专利公布CN202510041754.X2025-01-09CN122384492A2026-07-14蒋攀辉、周冬成、蒯蔚
11基板处理设备及基板处理方法发明专利公布CN202411917716.82024-12-23CN122294862A2026-06-26徐文华、刘阳、胡海波、张晓燕
12翻转装置及基板处理设备发明专利公布CN202411835174.X2024-12-12CN122227915A2026-06-16李德鑫、李承熙、沈旻燮、焦欣欣、张少帅、王俊、吴均
13基片处理装置发明专利公布CN202411806716.02024-12-09CN122206198A2026-06-12李昱、王文军、张晓燕
14机械手、基片处理设备及机械手的故障检测方法发明专利公布CN202411745347.92024-11-29CN122100059A2026-05-29刘权、贾社娜、张大海
15基片传输系统静电消除装置及方法发明专利公布CN202411715143.02024-11-26CN122121029A2026-05-29杨超繁、贾社娜、张大海、王晖
16门装置和基板处理设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411505689.32024-10-25CN121932087A2026-04-28安德磊、焦欣欣、吴均、王俊、王晖
17晶圆检测装置发明专利著录事项变更、公布CN202411352377.32024-09-26CN121740133A2026-03-27刘宁、焦欣欣、侯瀚、王俊、吴均、王晖
18半导体衬底处理装置及处理方法发明专利实质审查的生效、公布CN202411362992.22024-09-26CN121772639A2026-03-31李亚洲、贾社娜、王俊、方波、林金木、杜旭初、王晖
19基板承载片、晶舟及炉管设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411339305.52024-09-24CN121752006A2026-03-27王晖、杨超繁、贾社娜、张大海、全钟赫、沈周燮、金睿娜、尹炡友
20基板升降机构及基板处理装置发明专利实质审查的生效、公布CN202411282607.32024-09-12CN121693034A2026-03-17李亚洲、王俊、贾社娜、王晖
21晶舟及炉管设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411206276.52024-08-29CN121665989A2026-03-13邱浩、周冬成
22管路拆装工装发明专利授权CN202411028309.12024-07-29CN119927842B2025-12-19杨超繁、贾社娜、张大海
23炉管设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411027169.62024-07-29CN121442982A2026-01-30刘满成、刘权、孙旭海
24工艺管及炉管设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411003481.12024-07-24CN121409008A2026-01-27王晖、杨超繁、贾社娜、张大海、全钟赫、沈周燮、金睿娜、尹炡友
25化学气相沉积方法发明专利实质审查的生效、公布CN202410844357.12024-06-26CN121204634A2025-12-26孙旭海、刘满成
26高温炉管的密封结构及密封方法发明专利实质审查的生效、公布CN202410825152.92024-06-24CN119845044A2025-04-18吕策、张大海、王晖、沈周燮
27立式炉管发明专利实质审查的生效、公布CN202410783591.82024-06-17CN121161259A2025-12-19吕策、王晖、贾社娜、张大海
28进气系统及炉管设备发明专利实质审查的生效、公布CN202410685462.52024-05-29CN121046813A2025-12-02李抒怀、周冬成、石家燕
29管路固定夹具及炉管设备发明专利实质审查的生效、公布CN202410503206.X2024-04-24CN120830773A2025-10-24杨超繁、张大海、吕策、刘权
30原子层沉积方法、炉管设备及其抽真空方法发明专利实质审查的生效、公布CN202410411861.22024-04-07CN120776275A2025-10-14王晖、李益承、周文英、周冬成、刘满成、张大海、刘权
31槽盖及基板液处理槽发明专利实质审查的生效、公布CN202410363051.42024-03-27CN120714987A2025-09-30郭争辉、李亚洲、贾社娜
32晶舟及炉管设备发明专利实质审查的生效、公布CN202410294867.62024-03-14CN120656978A2025-09-16陈宇、王晖、周冬成、刘满成、杨全柱、孙旭海
33具有清洗功能的炉管及炉管的清洗工艺发明专利授权CN202410295385.22024-03-14CN120649155B2026-08-18孙旭海、陈宇、周冬成
34基片处理装置发明专利实质审查的生效、公布CN202410109256.X2024-01-25CN120366750A2025-07-25刘满成、周冬成、岳凡、唐成吉、王亭亭
35基板检测装置发明专利实质审查的生效、公布CN202410095313.32024-01-23CN120376446A2025-07-25刘宁、焦欣欣、李德鑫、吴均、王俊、王晖
36高温炉管设备发明专利实质审查的生效、公布CN202410039451.X2024-01-10CN120300035A2025-07-11吕策、沈周燮、贾社娜、张大海
37基片处理装置发明专利实质审查的生效、公布CN202311869358.32023-12-29CN120237043A2025-07-01李亚洲、王俊、方波、陶泽魏、贾社娜、陶晓峰、林金木、杜旭初
38炉管设备发明专利实质审查的生效、公布CN202311870167.92023-12-29CN120231015A2025-07-01张大海、王晖、王坚、周冬成、贾社娜、刘权、金泳律、全鍾赫
39基板处理设备及方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311861507.12023-12-29CN120237067A2025-07-01冯凯、胡海波、刘成柱、张祝祥、刘璇、王亭亭
40半导体设备发明专利实质审查的生效、公布CN202311813081.22023-12-26CN120224598A2025-06-27林金木、李亚洲、朱俊效
41薄膜沉积装置发明专利实质审查的生效、公布CN202311631965.62023-11-30CN120060819A2025-05-30孙旭海、陈宇、陈国强、王晖
42温控方法及系统发明专利实质审查的生效、公布CN202311570555.52023-11-22CN120029374A2025-05-23张少帅、俞允成、王俊、王晖
43基片承载装置及基片处理设备发明专利实质审查的生效、公布CN202311560424.92023-11-21CN120033124A2025-05-23吴映、李亚洲
44晶圆传输机械手的清洗装置发明专利实质审查的生效、公布CN202311105122.22023-08-29CN119527825A2025-02-28王晖、向阳、初振明
45基板处理装置发明专利实质审查的生效、公布CN202311100473.42023-08-29CN119542170A2025-02-28邓雪飞、徐融、王俊、张晓燕
46晶圆清洗装置及清洗方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311085650.62023-08-25CN119517781A2025-02-25冯浩、安德磊、徐时座、徐融、张晓燕
47检测沉积膜层厚度的光学检测装置、炉管设备和控制方法发明专利实质审查的生效、公布CN202310928711.42023-07-26CN119381277A2025-01-28杨全柱、陈宇、周冬成、王坚、王晖
48供液装置及基板处理设备发明专利实质审查的生效、公布CN202310922015.22023-07-25CN119381286A2025-01-28林桢、张晓燕、初振明、张少帅
49温度传感器发明专利实质审查的生效、公布CN202310807954.22023-07-03CN119245844A2025-01-03张少帅、吴均、王俊、王晖、王亭亭、刘丽平
50晶圆清洗装置发明专利实质审查的生效、公布CN202310800189.12023-06-30CN119230439A2024-12-31徐融、王俊

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