中欣晶圆申请硅片舟迹消除法相关专利，优化LPCVD环节消除舟迹，提升薄膜均匀性和良率
创始人
2026-02-28 10:18:29
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2月28日消息，国家知识产权局信息显示，杭州中欣晶圆半导体股份有限公司申请一项名为“用于消除LPCVD加工中硅片舟迹的方法”的专利。申请公布号为CN121575367A，申请号为CN202511529816.8，申请公布日期为2026年2月27日，申请日期为2025年10月24日，发明人黄明洋、李鹏，专利代理机构杭州融方专利代理事务所（普通合伙），专利代理师沈相权，分类号C23C16/02、C23C16/455、C23C16/52、C23C16/56、C23C16/34。

专利摘要显示，本发明涉及一种用于消除LPCVD加工中硅片舟迹的方法，所属半导体制造技术领域，包括如下操作步骤：第一步：在将硅片放置到硅舟上之前，对硅片表面进行等离子体清洗处理。第二步：在LPCVD工艺过程中，精确控制反应温度、压力和反应气体流量。第三步：在薄膜沉积完成后，通过冷却介质循环系统快速降低支撑条的温度，使硅片在与支撑条接触的状态下迅速均匀冷却。第四步：冷却完成后，将硅片从硅舟上取下，进行后续的检测和处理。具有操作便捷和运行稳定性好的优点。通过优化沉积前准备、沉积过程控制和沉积后处理三个环节，系统性地解决了LPCVD工艺中常见的舟迹问题，显著提升了薄膜的均匀性和硅片的良率。

天眼查数据显示，杭州中欣晶圆半导体股份有限公司成立日期2017年9月28日，法定代表人贺贤汉，所属行业为计算机、通信和其他电子设备制造业，企业规模为大型，注册资本523559.0107万人民币，实缴资本503225.6776万人民币，注册地址为浙江省杭州市钱塘区东垦路888号。杭州中欣晶圆半导体股份有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目42次，财产线索方面有商标信息7条，专利信息417条，拥有行政许可22个。

杭州中欣晶圆半导体股份有限公司近期专利情况如下：

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人
1基于边缘区域在线监测与动态压力补偿的抛光方法发明专利公布CN202511886277.32025-12-15CN121552237A2026-02-24徐姜炜
2针对晶圆倒角的晶圆边缘加工系统及倒角工艺发明专利公布CN202511865282.62025-12-11CN121552186A2026-02-24黄炜霞
3一种片盒包装的装载、检查系统及安装方法发明专利公布CN202511846572.62025-12-09CN121553472A2026-02-24王斌
4硅片V型槽抛光中心矫正的加工方法发明专利公布CN202511816359.02025-12-04CN121572186A2026-02-27吴福壮
5预防供液管路结晶的冲洗装置及其控制方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511773551.62025-11-28CN121403247A2026-01-27毛国领
6改善双面抛光加工硅片厚度形貌倾斜的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511617289.62025-11-06CN121374420A2026-01-23姚胜平
7硅片小抛头的整组更换结构及其操作方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511617287.72025-11-06CN121424229A2026-01-30陈彬
8一种分析炉管清洗槽金属污染水平的检测方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511581737.12025-10-31CN121298370A2026-01-09周桂丽、赵祥峰、戴潮、代治立、周卫宏
9一种使用平板氧化铝进行半导体级硅片磨片的研磨液及研磨方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511586194.22025-10-31CN121427493A2026-01-30高威
10一种基于硅烷-氮气分阶断沉积的LPCVD均一性优化工艺发明专利实质审查的生效、公布CN202511586213.12025-10-31CN121428520A2026-01-30赵祥峰
11一种基于APCVD工艺的硅片倒角部位LTO层去除方法和系统发明专利实质审查的生效、公布CN202511586203.82025-10-31CN121443043A2026-01-30高威
12流量校准的工具及其使用方法发明专利公布CN202511577872.92025-10-31CN121521229A2026-02-13王方立
13检测设备相机的散热系统及其运行方法发明专利公布CN202511577875.22025-10-31CN121559800A2026-02-24李君
14基于红外线阵扫描的倒角机崩边实时检测装置及方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511567859.52025-10-30CN121104823A2025-12-12杜书红
15一种提升硅片背面去蜡能力的方法发明专利公布CN202511563995.72025-10-30CN121487521A2026-02-06朱墨涵、王骞玮
16基于CMP工序用的研磨液添加系统及方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511549473.12025-10-28CN121223690A2025-12-30杨石平
17一种用于单晶硅片的高效低损伤研磨液及其制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511552895.42025-10-28CN121319792A2026-01-13黄炜霞
18用于消除LPCVD加工中硅片舟迹的方法发明专利公布CN202511529816.82025-10-24CN121575367A2026-02-27黄明洋、李鹏
19一种针对磨片定盘中沟槽研磨粉的柔性清洁系统及方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511520729.62025-10-23CN121374419A2026-01-23苏鹏辉
20防止晶圆在高速旋转中裂片的气浮卡盘装置及其控制方法发明专利公布CN202511488822.32025-10-17CN121548270A2026-02-17方涛
21用于解离硅片的样条装置及其控制方法发明专利公布CN202511488820.42025-10-17CN121535855A2026-02-17王烨华
22基于自动化监控的单面抛光机台抛头寿命管理方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511407269.62025-09-29CN121290170A2026-01-09郭天天
23一种基于差异化修整抛光布工艺优化方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511407270.92025-09-29CN121374293A2026-01-23姚胜平
24改善LTO膜外观良率的集预处理洗净和存储一体的可靠性工艺发明专利公布CN202511410897.X2025-09-29CN121568529A2026-02-24刘文涛
25硅片在减薄时产品背面污迹的清洗方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511399762.82025-09-28CN121310868A2026-01-09方一栋、缪燃、唐鸿钦
26改善硅片局部平坦度的抛光工艺发明专利公布CN202511398863.32025-09-28CN121468288A2026-02-06李赛武
27硅片研磨设备的定盘清洁与维护方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511344562.22025-09-19CN121156902A2025-12-19王小明
28SRP过度区宽度的计算方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511344565.62025-09-19CN121463785A2026-02-03吴瑶
29CMP抛光布更换定位导向器及气泡排除辅助夹具发明专利实质审查的生效、公布CN202511296333.82025-09-11CN121179349A2025-12-23陈彬
30具有缩小整根硅单晶棒电阻率范围的硅单晶拉制方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511304565.32025-09-11CN121407221A2026-01-27郭体强、齐旭东
31AMAT常压外延炉腔体的正压氦检设备及方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511296263.62025-09-11CN121409526A2026-01-27辜勇
32硅片倒角机清洗槽加工后硅片背面残留水珠清理方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511224626.52025-08-29CN121171927A2025-12-19唐鸿钦、杨自立、罗敏杰
33在LPCVD制备工艺中的高稳定性石英硅舟平台结构及方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511224618.02025-08-29CN121161264A2025-12-19刘文涛、李赛武
34无尘室用适应多规格上料的升降式防震动工具车及方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511215435.22025-08-28CN121083591A2025-12-09田飞、杨自立
35改善硅片经过SP1后产生背面手臂印记的工装及方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511143738.82025-08-15CN121171964A2025-12-19郑斌
36半导体硅片检测人员智能培训与动态知识管理方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511102792.82025-08-07CN121190261A2025-12-23董盼盼、罗敏杰
37半导体硅片返抛品全流程智能管理方法及系统发明专利实质审查的生效、公布CN202511102795.12025-08-07CN121189357A2025-12-23李叶梅、罗敏杰
38针对磨片机的分体式清洁系统及工艺发明专利公布CN202511050050.52025-07-29CN120755109A2025-10-10苏鹏辉
39用于晶圆加工的BSD实验装置及其控制方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511050080.62025-07-29CN121004547A2025-11-25魏朋朋
40硅片装载泡沫箱开箱工具及其使用方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511017736.42025-07-23CN120793342A2025-10-17杨自立、罗敏杰
41一种用于硅片酸腐蚀的工艺方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510980373.82025-07-16CN121054480A2025-12-02缪燃
42一种针对硅片抛光机的销环柱自动清理系统及工艺发明专利实质审查的生效、公布CN202510973791.42025-07-15CN120734883A2025-10-03王方立
43一种晶圆片的检测系统及方法发明专利公布CN202510973721.92025-07-15CN120992647A2025-11-21李鹏、包亚平
44一种快速校准马波斯气压计的校正工具发明专利实质审查的生效、公布CN202510975826.82025-07-15CN121048825A2025-12-02石建群
45一种提升12寸LTO背封膜厚均一性的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510968442.32025-07-14CN121046812A2025-12-02陈珈璐、高洪涛、何荣
46一种提高双面研削机清洗部清洗效果以及效率的结构和方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510961337.72025-07-14CN121054525A2025-12-02崔银昊
47一种用于改善抛光片平坦度和划伤的方法发明专利公布CN202510961110.22025-07-12CN120772953A2025-10-14张文军
48研磨桶颗粒聚集的改进方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510950873.72025-07-10CN120791624A2025-10-17孙贵昌
49晶圆抛光机回收箱的改造挂件及其控制方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510950876.02025-07-10CN120862570A2025-10-31张亚生、孙月超
50一种可视化的自动化仓库点位调整治具及操作方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510930369.02025-07-07CN120622092A2025-09-12钱鹏飞

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