证券代码：688072 证券简称：拓荆科技 公告编号：2026-009

拓荆科技股份有限公司

2025年度业绩快报公告

本公司董事会及全体董事保证本公告内容不存在任何虚假记载、误导性陈述或者重大遗漏，并对其内容的真实性、准确性和完整性依法承担法律责任。

本公告所载拓荆科技股份有限公司（以下简称“公司”，含合并报表范围内的下属公司）2025年度主要财务数据为初步核算数据，未经会计师事务所审计，具体数据以公司2025年年度报告披露的数据为准，提请投资者注意投资风险。

一、2025年度主要财务数据和指标

单位：人民币万元

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注：1、本报告期初数同法定披露的上年年末数。

2、以上财务数据及指标以合并报表数据填列，但未经审计，最终结果以公司2025年年度报告为准。

二、经营业绩和财务状况情况说明

（一）报告期的经营情况、财务状况及影响经营业绩的主要因素

1、经营情况

2025年度，公司实现营业收入约65.19亿元，同比增长约58.87%；归属于母公司所有者的净利润约9.29亿元，同比增长约35.05%；归属于母公司所有者的扣除非经常性损益的净利润约7.26亿元，同比增长约103.79%。

2、财务状况

2025年末，公司总资产约198.25亿元，与本报告期初相比增长约29.45%；归属于母公司的所有者权益约66.12亿元，与本报告期初相比增长约25.23%。

3、影响经营业绩的主要因素

随着人工智能（AI）、高性能计算（HPC）、汽车电子（智能驾驶、车联网）、机器人及可穿戴设备等新兴领域技术的快速发展和需求的激增，芯片制造厂加速推进先进制程的技术迭代，同时不断扩大产能规模。公司积极把握半导体芯片技术迭代升级与国产替代的发展机遇，构建了较为完善的薄膜沉积设备、三维集成领域设备的产品矩阵。依托在PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、Flowable CVD 等薄膜沉积设备及先进键合设备领域的技术突破与规模化量产，公司在先进制程领域核心竞争力显著提升，业务规模实现大幅增长。

公司始终坚持高强度研发投入与自主创新双轮驱动，在新产品研发、产业化落地及全系列产品迭代升级等关键领域，取得了一系列重大突破性创新成果。2025年，公司基于新型设备平台（PF-300T Plus 和 PF-300M）和新型反应腔（pX 和Supra-D）的 PECVD Stack（ONO 叠层）、ACHM以及 PECVD Bianca等先进制程机台通过客户验证，实现产业化放量；应用于先进存储领域的PECVD OPN、SiB等先进工艺设备通过客户验证；ALD多种工艺设备通过客户验证，其收入同比实现大幅度增长，产业化进程显著加速；在混合键合设备方面，持续拓展客户群体，收入保持高速增长趋势。公司持续完善和扩大工艺覆盖范围，整体技术实力与核心竞争力实现稳步提升。

（二）上表中有关项目增减变动幅度达30%以上的主要原因说明

1、报告期内，营业收入同比增长58.87%，主要系公司产品竞争力持续提升， 公司应用于先进存储、先进逻辑领域的PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD等先进工艺设备进入规模化量产，并实现收入转化；先进键合设备在客户拓展方面取得了关键突破，销售收入实现了大幅增长。

2、报告期内，归属于母公司所有者的净利润同比增长35.05%，主要原因为：

（1）营业收入大幅增长，毛利额增加；

（2）公司营业收入规模持续扩大，同时规模效应逐渐显现，期间费用率下降。

3、报告期内，归属于母公司所有者的扣除非经常性损益的净利润同比增长103.79%，主要原因为：

（1）日常经营活动产生的归属于母公司股东的净利润大幅增加；

（2）非经常性损益同比减少，主要为公司对外投资的公允价值变动损益同比减少。

4、报告期内，基本每股收益同比增长34.27%，主要原因为归属于母公司股东的净利润大幅度增长。

三、风险提示

本公告所载2025年度主要财务数据为初步核算的合并报表数据，未经会计师事务所审计，具体数据以公司2025年年度报告中披露的数据为准，敬请广大投资者注意投资风险。

特此公告。

拓荆科技股份有限公司董事会

2026年2月28日