8月30日消息,国家知识产权局信息显示,合肥晶合集成电路股份有限公司申请一项名为“晶体管制备方法、晶体管及电子设备”的专利。申请公布号为CN122662269A,申请号为CN202611164387.3,申请公布日期为2026年8月28日,申请日期为2026年8月3日,发明人张盖、罗钦贤、吴明晏、南子昱、王雪,专利代理机构华进联合专利商标代理有限公司,专利代理师杨明莉,分类号H10D84/01、H10D84/03、H10D84/83、H10D30/60、H10D30/01。
专利摘要显示,本申请提供一种晶体管制备方法、晶体管及电子设备,制备方法包括:提供衬底;衬底上包括沿平行衬底第一表面的第一方向间隔排列的第一栅极,以及位于相邻第一栅极之间,间隔设置的多个第二栅极;衬底内包括与第一栅极一对一设置的隔离结构;以第一栅极为掩模,去除部分隔离结构,以形成凹槽;凹槽的截面呈直角梯形,其开口尺寸沿远离第一栅极的第二方向逐渐减小;形成填满凹槽,顶面与衬底顶面齐平的外延层后,于第一栅极、第二栅极之间的衬底内形成间隔排列的西格玛型锗硅层;其中,凹槽的直角边长与锗硅层的宽度、尖端深度,以及节距宽度相关。能够解决嵌入式锗硅工艺中器件结构对称性差、虚接等问题,从而改善器件性能。
晶合集成是国内领先的专注于晶圆代工的集成电路制造企业,依托特色工艺技术壁垒深耕显示驱动芯片等领域,2015年5月19日成立,2023年5月5日于上海证券交易所上市,注册地与办公地均位于安徽省合肥市。
晶合集成主营业务为12英寸晶圆代工业务,聚焦行业先进工艺的研发与落地,可为客户提供覆盖多种制程节点、不同工艺平台的晶圆代工服务,所属申万行业为电子-半导体-集成电路制造,同时布局MCU概念、集成电路、汽车芯片三大热门概念板块。
2026年上半年,晶合集成实现营业收入59.57亿元,在所属7家同赛道企业中排名第4,当期行业营收第一名中芯国际为386.35亿元、第二名华虹宏力为95.74亿元,行业平均营收93.45亿元,公司营收与行业中位数持平;当期归母净利润2.22亿元,同样在7家同赛道企业中位列第4,行业净利润第一名中芯国际为64.39亿元、第二名赛微电子为26.75亿元,行业平均净利润14.11亿元,公司净利润也与行业中位数持平。业务结构方面,集成电路相关业务贡献营收57.66亿元,占总营收比重达96.80%,其他补充类业务营收1.91亿元,占比3.20%。
| 指标类别 | 具体指标 | 晶合集成当期数值 | 行业排名/总样本数 | 行业头部企业数值 | 行业平均数 | 行业中位数 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 营收维度 | 2026年上半年营业收入 | 59.57亿元 | 4/7 | 第一名中芯国际386.35亿元、第二名华虹宏力95.74亿元 | 93.45亿元 | 59.57亿元 |
| 利润维度 | 2026年上半年净利润 | 2.22亿元 | 4/7 | 第一名中芯国际64.39亿元、第二名赛微电子26.75亿元 | 14.11亿元 | 2.22亿元 |
| 业务构成 | 集成电路业务营收占比 | 96.80% | - | - | - | - |
| 业务构成 | 其他补充业务营收占比 | 3.20% | - | - | - | - |
合肥晶合集成电路股份有限公司近期专利情况如下:
| 序号 | 专利名称 | 专利类型 | 法律状态 | 申请号 | 申请日期 | 公开(公告)号 | 公开(公告)日期 | 发明人 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 晶体管制备方法、晶体管及电子设备 | 发明专利 | 公布 | CN202611164387.3 | 2026-08-03 | CN122662269A | 2026-08-28 | 张盖、罗钦贤、吴明晏、南子昱、王雪 |
| 2 | 半导体测试结构及测试方法 | 发明专利 | 公布 | CN202611150791.5 | 2026-07-31 | CN122652240A | 2026-08-28 | 马盟、鲍丙辉、李倩娣 |
| 3 | 一种Fin FET器件及其制造方法 | 发明专利 | 公布 | CN202611147204.7 | 2026-07-30 | CN122662243A | 2026-08-28 | 李猛猛、唐鹏飞、魏巍 |
| 4 | 一种校正方法、计算机可读存储介质及光刻机 | 发明专利 | 公布 | CN202611141368.9 | 2026-07-30 | CN122652910A | 2026-08-28 | 李海峰、赵志豪、张祥平、黄玉 |
| 5 | 基于图形轮廓顶点匹配的GDS版图对比方法及系统 | 发明专利 | 公布 | CN202611132347.0 | 2026-07-29 | CN122637020A | 2026-08-25 | 刘苑、查乐、田姿璘 |
| 6 | 半导体结构及其制备方法 | 发明专利 | 公布 | CN202611116631.9 | 2026-07-27 | CN122641036A | 2026-08-25 | 张君良、江澳、田贝贝、谢智宇、王韦顺 |
| 7 | 一种SRAM噪声边缘分析方法及装置、系统、存储介质 | 发明专利 | 公布 | CN202611115006.2 | 2026-07-27 | CN122637856A | 2026-08-25 | 田志锋 |
| 8 | 基于场景的根因预测模型训练方法、装置、设备、介质和程序产品 | 发明专利 | 公布 | CN202611100269.6 | 2026-07-23 | CN122616744A | 2026-08-21 | 崔恒丽、张利强、俞洁、林今焕 |
| 9 | 半导体器件的形成方法和半导体器件 | 发明专利 | 公布 | CN202611088837.5 | 2026-07-22 | CN122622329A | 2026-08-21 | 王淑娜、宋富冉、刘乃硕 |
| 10 | 半导体结构制备方法及半导体结构 | 发明专利 | 公布 | CN202611091082.4 | 2026-07-22 | CN122622285A | 2026-08-21 | 胡一凡 |
| 11 | 半导体器件结构及其制备方法 | 发明专利 | 公布 | CN202611090819.0 | 2026-07-22 | CN122622310A | 2026-08-21 | 刘洋、李琦琦、祝君龙 |
| 12 | 埋入式栅极结构及制备方法 | 发明专利 | 公布 | CN202611065450.8 | 2026-07-17 | CN122602562A | 2026-08-18 | 江珂、林祐丞、杨智强 |
| 13 | 离子注入工艺光阻层厚度的安全性验证方法及选择方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202611022452.9 | 2026-07-10 | CN122535230A | 2026-08-07 | 夏陈红、程挚 |
| 14 | 对准系统校正方法、基准点标记板及其制作方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202611016741.8 | 2026-07-09 | CN122535209A | 2026-08-07 | 毛文龙、李海峰、黄玉、吴建宏 |
| 15 | 光学邻近效应修正方法及装置、半导体器件制造方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202611016093.6 | 2026-07-09 | CN122525844A | 2026-08-07 | 赵广、罗招龙 |
| 16 | 半导体物料的动态存储方法、装置、设备、介质 | 发明专利 | 公布 | CN202611016172.7 | 2026-07-09 | CN122596837A | 2026-08-18 | 卫春生、汪杰、李翔、曹齐清、严倩倩、李佳蓓、张乐、蔡栋煌 |
| 17 | 半导体工厂的高处作业行为识别方法、装置和设备 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202611009342.9 | 2026-07-08 | CN122510972A | 2026-08-04 | 毛周亮、夏慧、徐旻芮、黄俊旗、李天定 |
| 18 | 半导体器件的制备方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202611000593.0 | 2026-07-07 | CN122514031A | 2026-08-04 | 刘苏涛 |
| 19 | 一种含有间隔交叉空气间隙的半导体器件及其制造方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202611001373.X | 2026-07-07 | CN122514244A | 2026-08-04 | 崔立加、余义祥、王梦晴、李敏新 |
| 20 | 图像传感器及其制造方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202611001464.3 | 2026-07-07 | CN122514061A | 2026-08-04 | 康绍磊、汪凯伦 |
| 21 | 对准标记的异常检测方法及提高光刻工艺套准精度的方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202611002015.0 | 2026-07-07 | CN122506782A | 2026-08-04 | 陈大业、李海峰、黄玉 |
| 22 | 一种半导体器件的制作方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610999508.X | 2026-07-07 | CN122514030A | 2026-08-04 | 武莹莹 |
| 23 | 面向设计-制造的多智能体协同方法、系统及电子设备 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610992342.9 | 2026-07-06 | CN122509026A | 2026-08-04 | 陈健、秦绪威、刘哲儒 |
| 24 | 晶圆测试路径的规划方法、装置、探针台、设备及介质 | 发明专利 | 公布 | CN202610986471.7 | 2026-07-03 | CN122497321A | 2026-07-31 | 王朋、杨锃、李飞 |
| 25 | 一种背照式图像传感器晶圆键合方法及背照式图像传感器 | 发明专利 | 公布 | CN202610976510.5 | 2026-07-02 | CN122476835A | 2026-07-28 | 沈娅、许超、杨少华 |
| 26 | 测量混合键合强度的方法、监测机台稳定性的方法及系统 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610970010.0 | 2026-07-01 | CN122476885A | 2026-07-28 | 伍德超、陶磊、梁健 |
| 27 | 一种背照式图像传感器及其制作方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610968214.0 | 2026-07-01 | CN122476695A | 2026-07-28 | 张庆庆、谢荣源、宋明明、温海龙 |
| 28 | 半导体器件及其制备方法 | 发明专利 | 公布 | CN202610967959.5 | 2026-07-01 | CN122476654A | 2026-07-28 | 周同、王维安、程洋 |
| 29 | 一种金属硅化物的形成方法及半导体结构 | 发明专利 | 公布 | CN202610966312.0 | 2026-07-01 | CN122476658A | 2026-07-28 | 刘苏涛 |
| 30 | 一种半导体器件及其制作方法 | 发明专利 | 公布 | CN202610966313.5 | 2026-07-01 | CN122476669A | 2026-07-28 | 李燕、宋富冉、王淑娜、刘乃硕 |
| 31 | 半导体结构及其制作方法 | 发明专利 | 公布 | CN202610959576.3 | 2026-06-30 | CN122476903A | 2026-07-28 | 魏榕、沐凡、韩壮壮、季小龙、张正 |
| 32 | 半导体结构及其制作方法 | 发明专利 | 公布 | CN202610959724.1 | 2026-06-30 | CN122476904A | 2026-07-28 | 马亚强、张正、季小龙、韩壮壮、魏榕 |
| 33 | 一种半导体结构的制作方法 | 发明专利 | 公布 | CN202610953205.4 | 2026-06-30 | CN122476657A | 2026-07-28 | 江道、林豫立、刘哲儒 |
| 34 | 一种半导体器件制备方法、半导体器件和图像传感器 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610941777.0 | 2026-06-29 | CN122476834A | 2026-07-28 | 伍德超、郝小强 |
| 35 | 测试结构、测试方法及测试系统 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610925895.2 | 2026-06-25 | CN122487862A | 2026-07-31 | 王朋、杨锃、李飞 |
| 36 | 曝光场间的对准标记及其形成方法、封测工艺 | 发明专利 | 公布 | CN202610902754.9 | 2026-06-23 | CN122431066A | 2026-07-21 | 张传稳、陈晓妍、於飞飞 |
| 37 | 晶圆生产工艺流程管控方法、电子设备和存储介质 | 发明专利 | 公布 | CN202610902753.4 | 2026-06-23 | CN122453119A | 2026-07-24 | 黄柱、檀明伟、沈统一、范夏玲 |
| 38 | 光掩模版设计图形的处理方法、处理装置及存储介质 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610894083.6 | 2026-06-22 | CN122410885A | 2026-07-17 | 殷诗淇、罗招龙、王康 |
| 39 | 半导体结构及其制备方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610893210.0 | 2026-06-22 | CN122438361A | 2026-07-21 | 章航、郭哲劭、郭廷晃、薛翔、宋明 |
| 40 | 一种半导体结构的制作方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610893494.3 | 2026-06-22 | CN122438556A | 2026-07-21 | 牛苗苗、高志杰 |
| 41 | 一种晶圆键合方法及键合晶圆 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610882602.7 | 2026-06-18 | CN122421814A | 2026-07-17 | 伍德超、郝小强、梁健、张立弟、张天阳 |
| 42 | 半导体器件及其制备方法、芯片 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610888879.0 | 2026-06-18 | CN122421383A | 2026-07-17 | 宋明、郭哲劭、郭廷晃 |
| 43 | 一种二极管的测量结构、测量方法及集成电路 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610873754.0 | 2026-06-17 | CN122396281A | 2026-07-14 | 张立涛、姚子凤、张倩、方昕、郑启涛 |
| 44 | 一种半导体结构及其制备方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610874647.X | 2026-06-17 | CN122396131A | 2026-07-14 | 周成 |
| 45 | 一种光刻胶膜层涂布情况的检测方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610873529.7 | 2026-06-17 | CN122410902A | 2026-07-17 | 张雅丽、赵志豪、黄玉、毛文龙 |
| 46 | 半导体结构、半导体存储器及其制作方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610874649.9 | 2026-06-17 | CN122421333A | 2026-07-17 | 庄鹏程、宋富冉、刘乃硕 |
| 47 | 半导体结构的制备方法及半导体结构 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610859340.2 | 2026-06-15 | CN122396222A | 2026-07-14 | 张会成、高志杰 |
| 48 | 文本识别方法、系统及存储介质 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610856457.5 | 2026-06-15 | CN122392084A | 2026-07-14 | 杨思磊、陈云飞、李飞 |
| 49 | 一种晶圆关键尺寸量测方法、系统及机台 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610851078.7 | 2026-06-12 | CN122421738A | 2026-07-17 | 余钿钿 |
| 50 | 一种OPC建模方法、系统及计算机可读存储介质 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202610822265.2 | 2026-06-09 | CN122386578A | 2026-07-14 | 王康 |
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