8月18日消息，国家知识产权局信息显示，湖北兴福电子材料股份有限公司申请一项名为“一种抑制光刻胶下氧化硅侧向蚀刻的深沟槽蚀刻液”的专利，授权公告号CN117568037B，授权公告日为2026年8月14日。申请公布号为CN117568037A，申请号为CN202311321210.6，申请公布日期为2026年8月14日，申请日期为2023年10月12日，发明人武昊冉、张庭、贺兆波、李金航、许真、董攀飞、叶瑞、徐子豪、王巍，专利代理机构湖北三峡专利代理事务所（普通合伙），专利代理师成钢，分类号C09K13/06、C09K13/08。

专利摘要显示，本发明提供了一种抑制光刻胶下氧化硅侧向蚀刻的深沟槽蚀刻液，该蚀刻液按质量百分数计，包括以下成分：3‑9%的氢氟酸、30‑38%的氟化铵、0.01‑0.1%的活性剂，余量为超纯水；其中添加剂为三胺类的有机胺小分子与丙二醇嵌段聚醚大分子的混合物。通过三胺类的有机胺小分子与长碳链大分子活性剂的复配使用，蚀刻液的表面张力低、对硅的浸润性好、不易起泡，该蚀刻液将深沟槽内的氧化硅蚀刻完全且无残留。更重要的是，对于光刻胶覆盖下氧化硅侧向蚀刻抑制作用明显，显著降低光刻胶下氧化硅的侧向腐蚀，可以有效提高器件生产的良率。

兴福电子是国内湿电子化学品领域领先企业，专注电子级湿电子化学品研发生产，拥有全产业链配套优势。公司成立于2008年11月14日，2025年1月22日登陆上海证券交易所，注册地与办公地均位于湖北省宜昌市。

公司主营业务为湿电子化学品的研发、生产和销售，核心产品覆盖电子级磷酸、电子级硫酸等通用湿电子化学品，以及蚀刻液、清洗剂、显影液等功能湿电子化学品，申万行业分类隶属于电子-电子化学品Ⅱ-电子化学品Ⅲ，同时布局光刻胶、碳基半导体、电子化学品相关概念赛道。

2026年上半年，兴福电子实现营业收入9.66亿元，在7家同行业可比公司中排名第3，低于行业平均13亿元、略高于行业中位数9.34亿元，同期行业营收前两位分别为国瓷材料25.13亿元、光华科技（维权）22.48亿元；营收结构中通用湿电子化学品贡献6.48亿元，占比67.03%，功能湿电子化学品贡献1.79亿元，占比18.53%，其余业务板块合计占比14.44%。当期公司实现净利润1.2亿元，位列行业第2，仅次于国瓷材料的3.86亿元，净利润水平略高于行业平均数1.18亿元，大幅高于行业中位数7030.2万元。

湖北兴福电子材料股份有限公司近期专利情况如下：

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